北方华创高介电常数原子层沉积设备获批量订单

集微网消息 北方华创消息显示，近期，北方华创12英寸高介电常数原子层沉积设备Scaler HK430实现稳定量产，获得批量订单，市占率不断攀升。这标志着北方华创CVD（化学气相沉积）先进工艺设备解决方案的成功应用，为华创进一步拓宽高端设备赛道注入新的动力。

据悉，Scaler HK430设备采用Cross Flow（横流）的进气方式，能够实现更好的工艺稳定性控制，运用旋转Heater（加热基座）结构设计，能够达成更好的薄膜沉积均匀性及优异的颗粒控制表现；在结构系统方面，采用每腔单片式设计，在气流场均匀性、温度控制等方面表现优异，单片工艺结果一致性大幅提高；此外，反应源采用双源瓶设计，能够实现更高的Uptime（运行时间），同时源瓶采用真空加热方式，温度控制更加精准，安全系数更高，相较于同类型产品具备更好的颗粒控制能力；在软件方面，通过全自动流程及相关数据监控、安全互锁设定等为实现稳定量产提供更好的运行环境，与同类型产品相比，具备更高的安全性及稳定性。广泛应用于Logic（逻辑）、DRAM（动态随机存储器）等领域。

此外，北方华创推出的12英寸深硅刻蚀机PSE V300，已获得国内多家12英寸先进集成电路厂商的认可，成为TSV量产生产线主力机台，并扩展至功率器件、CIS（CMOS Image Sensor，图像传感器）等领域，全面应用于国内各大12英寸主流Fab厂。截至目前，设备装机量已超百腔。（校对/赵碧莹）