10月12日-16日，第26届中国国际工业博览会在国家会展中心（上海）举行。在创新科技馆里，一台被称为高端光刻机“心脏”的设备引发关注——朗道燧岩首次公开展示了一台极紫外（EUV）光源系统样机。
据解放日报报道，现场工作人员介绍称，该光源系统国产化率达到90%，绝大多数核心零部件为自主研发，技术路线与国际领先厂商一致，可用于芯片曝光测试。
EUV光源为什么重要？因为它是7nm及以下先进制程芯片制造的三大核心零部件之一，长期受海外技术垄断和禁运限制，是制约高端芯片自主可控的关键环节。过去，这一领域几乎看不到国产样机公开亮相；如今，它从实验室走到了工博会展台，意义并不只在于“展出”，更在于证明了技术路线具备工程化验证的基础。
从产品进展看，朗道燧岩官网已列出多款EUV相关产品：高功率极紫外光源系统FlintMicro-LPP系列已完成原理论证；低功率极紫外光源系统FlintNano LPP-OXXO已处于产品化阶段。官网公布的技术参数显示，FlintNano LPP-OXXO驱动激光功率为1000W，激光频率1至20kHz，转换效率大于2%，EUV能量大于15W，持续工作时间超过100小时。
但也要保持清醒：样机亮相不等于立刻量产。现场工作人员明确表示，该光源系统距离量产仍需3至5年。当前主要挑战在于提升输出功率和长期运行稳定性。商用EUV光刻系统通常要求光源功率达到数百瓦级别，并能在长时间运行中保持高度可靠，而目前展出的样机更多验证了技术路线可行性，距离工业级应用仍有明显差距。
换句话说，这次突破的价值在于“从0到1”的工程验证：它证明国产团队有能力把EUV光源从理论设计推向样机测试，也为后续提升功率、稳定性和产业链协同打下了基础。
公开资料显示，朗道燧岩公司成立于2024年，创始人王豪博士团队以清华大学气体放电等离子体实验室的研发成果为基础，聚焦LPP-EUV光刻光源技术。公司目前已完成多轮融资，投资方包括张江高科旗下燧玥创投、沃衍资本、中芯聚源等，并入驻上海集成电路设计产业园。
