12月20日，由半导体投资联盟和集成电路投资创新联盟主办、ICT知识产权发展联盟协办、爱集微承办的“2026半导体投资年会暨IC风云榜颁奖典礼”在上海前滩华尔道夫酒店圆满举行。
常州维普半导体设备有限公司（以下简称：维普半导体）凭借第四代IC Mask缺陷检测产品STORM 5000荣获2026 IC风云榜年度技术突破奖，该奖项旨在表彰2025年度在前沿技术领域开展原始性重大技术创新，达到国际先进/领先水平，并对推动我国集成电路产业链自主安全可控发展发挥重大作用的企业。
在半导体制造工艺日益精密的当下，光掩模作为芯片设计的“底片”，其缺陷检测的精度与效率直接决定了芯片的良率与性能。这一细分领域的检测设备长期被国际巨头垄断，成为制约我国集成电路产业链安全的关键环节之一。在此背景下，维普半导体深耕半导体光学缺陷检测设备领域，2016年子公司江苏维普光电成立并作为国内首批从事半导体光掩模检测设备企业，逐步成长为细分领域的“隐形冠军”。
公司产品线涵盖IC掩模缺陷检测、大尺寸掩模缺陷检测及晶圆缺陷检测三大领域，形成5大类产品矩阵。核心产品STORM系列半导体掩模检测设备已累计销售超60套，可满足130nm制程要求，全面覆盖国内主流Mask shop及业界头部客户，在国内市场树立了坚实的品牌影响力。
此次获奖的STORM 5000是维普半导体在STORM 3000成熟应用基础上，通过对光学系统、软件算法的全面升级而推出的新一代检测方案。该设备可为65/45nm及以上节点Reticle制造及晶圆制造过程提供高效检测，新增SDB、DD+SL同步检测、AI模型等先进特性，更好地支持PSM掩模，并能有效抑制因该结点下的OPC修正引入的假缺陷，展现出卓越的技术创新性。
在关键技术方面，STORM 5000实现了多项突破：采用基于UV激光的超高分辨率光学系统，支持反射光与透射光同时检测；配备纳米级运动控制系统和基于硬件的实时聚焦技术；构建分布式高性能计算系统，具备基于GPU的数据文件处理能力；搭载基于模型的DB算法，支持SDB、SL、DD、DD+SL等多种检测模式。其核心性能指标达到行业先进水平，在DB检测精度方面初步实现对30纳米级别图形尺寸缺陷的精准捕捉，SL模式下颗粒检测能力达55纳米，检测捕获率超过99%，GPU多通道检测时长控制在50分钟以内。在知识产权布局方面，维普半导体在STORM 5000系列研发过程中已累计获得17项专利，其中发明专利10项，实用新型及外观专利7项，核心专利全面覆盖光学成像、缺陷检测方法、运动控制等关键技术领域。
市场应用方面，STORM系列设备已成功进入中芯国际、迪思微、中微掩模、路维光电、睿晶半导体、龙图光罩、清溢光电等国内主流客户，并获得国际客户Photronics、Tekscend的验收与复购。维普半导体以产品品质稳定、性价比高和响应迅速著称，被客户誉为“维普维普，十分靠谱”的半导体量检测设备供应商。
IC风云榜作为中国集成电路领域的核心风向标，其影响力和关注度持续提升，不仅记录与呈现着行业的辉煌成就与蓬勃态势，更已发展成为半导体业内最具影响力的奖项之一，每年吸引全球数以万计的专业人士与投资者瞩目。
该榜单的评选工作由半导体投资联盟上百家会员单位，以及超过500位半导体企业CEO共同组成的专业评审团负责，其权威性深受业界认可。榜单不仅旨在表彰那些在技术创新、产品制造、资本运作、产业链建设等方面取得杰出成就的企业，同时也见证了上榜企业在获奖后市值增长与品牌国际影响力的显著提升，助力中国产业标杆走向世界舞台。未来，我们将继续致力于激发产业创新活力，培育优质创新生态，为中国半导体产业的高质量发展提供坚实支撑与持续动力。
