集微网消息,据韩国业界消息,三星正在考虑在其下一代DRAM中应用模压填充技术(MUF)。目前,三星已在现有的RDIMM服务器内存中应用热压非导电薄膜(TC NCF),但消息人士称,三星最近在3DS RDIMM中使用大规模回流 (MR) MUF工艺,与TC NCF相比,吞吐量有所提升,但物理特性却恶化了。
三星一名高管此前下令对MUF进行测试。经过测试,该公司得出的结论是,MUF不适用于高带宽内存 (HBM),但最适合 3DS RDIMM。这类产品面向服务器,同样使用硅通孔(TSV)工艺。
据悉,三星芯片部门计划与三星SDI合作开发自研MUF化合物,目前已订购相关设备。
不过,三星预计将继续在HBM中使用TC NCF,预计美光也将采取类似的做法,可以避免多层晶圆堆叠后的翘曲问题。
(校对/赵月)