美光纽约Fab项目正接受环境审查

集微网消息 据媒体报道，美光在纽约的Dram的制造项目正在接受相关机构的环境审查。

报道指出，美光打算在未来20多年内总计投资高达1000亿美元用于生产，其中，在纽约克莱（Clay）计划建造1400英亩（570公顷）园区，到2030年投资达200亿美元。

美光表示，目前正在申请芯片法案的资金补贴，如果获得通过，则需要进行环境审查。

资料显示，该项目预计明年开始建造，计划中的四个600,000平方英尺（56,000平方米）中的两座工厂将于2029年开放，还有两家工厂将与2041年投入运营。

报道显示，此次环境审查将至少需要几个月的时间。

截至目前，美国商务部已宣布提供17亿美元的芯片法案补贴，包括向GlobalFoundries提供15亿美元，用于在纽约马耳他建造半导体生产设施，并扩大那里和佛蒙特州伯灵顿的业务。

此外，商务部1月份宣布向Microchip Technology提供1.62亿美元的奖金，并于12月向新罕布什尔州的BAE Systems设施提供3500万美元的奖金。

商务部长吉娜·雷蒙多周一表示，芯片公司预计的补贴应该比他们寻求的要少得多，并补充说，该部门正在优先考虑到2030年投入运营的项目。

美国商务部计划投资280亿美元用于尖端芯片制造，但目前企业希望获得补贴的申请已要求超过700亿美元。雷蒙多说，该部门正在与个别公司进行艰难的谈判。