【IPO一线】拉普拉斯科创板IPO成功过会 核心技术先进性成问询重点

集微网消息 12月27日，据上海证券交易所上市审核委员会2023年第103次审议会议结果显示，拉普拉斯新能源科技股份有限公司（简称：拉普拉斯）科创板IPO成功过会。

不过，上交所上市委也提出两大问询。一是请拉普拉斯代表结合 PERC、TOPCon、XBC 三种技术路线在提高电池转换效率、降低综合成本等方面的优劣势，光伏高端装备制造业市场竞争格局，公司在产业技术迭代过程中取得的关键技术成果及应用情况，说明公司核心技术的先进性和业绩增长的可持续性。

二是请拉普拉斯代表结合公司生产特点和现有固定资产规模，以及募投项目投资概算的具体内容，说明本次募集资金投建大额固定资产的必要性和合理性。

拉普拉斯是一家领先的高效光伏电池片核心工艺设备及解决方案提供商，主营业务为光伏电池片制造所需高性能热制程、镀膜及配套自动化设备的研发、生产与销售，并可为客户提供半导体分立器件设备和配套产品及服务。公司热制程设备主要包括硼扩散、磷扩散、氧化及退火设备等，镀膜设备主要包括 LPCVD 和PECVD 设备等，自动化设备为可以有效提升工艺设备生产效率的配套上下料设备；公司半导体分立器件设备主要包括氧化、退火、镀膜和钎焊炉设备等一系列具有比较优势的产品；公司配套产品及服务是公司根据客户的需求为销售的设备适配相应零部件及提供改造服务，属于客户对公司设备产品所产生的延伸需求。

拉普拉斯称，公司凭借技术积累，并结合市场客户的需求，开始逐步进入半导体分立器件设备领域，形成了氧化、退火、镀膜和钎焊炉设备等一系列具有比较优势的产品，并开始逐步导入到下游行业内领先企业。

在具体产品方面，拉普拉斯持续对高温氧化设备和高温退火设备进行开发与优化，可适用于 SiC 基半导体器件生产工艺；公司 LPCVD 设备可满足氮化硅/氧化硅/多晶硅（Poly-Si）/非晶硅（α-Si）薄膜沉积技术的应用需求，并适用于半导体分立器件的生产。

随着产品和技术的不断成熟，拉普拉斯半导体分立器件设备已完成向比亚迪、基本半导体的导入工作，并持续进行潜在优质客户的拓展。