台积电明年资本支出重点在3nm与2nm以下先进制程

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集微网消息,市场传出,台积电明年资本支出可能降为280亿美元~300亿美元,年减6.3%~12.5%,恐下探近四年来低点。

但业界人士透露,台积电明年先进制程研发投资将持续增长,不过,预计部分3nm先进制程设备机台约80%可和5nm/7nm共用。随着7nm产能利用率在季节过渡阶段,预期明年资本支出重点在3nm与2nm以下先进制程与光掩模投资。成熟制程持续方面,则会拉升特殊制程比重与先进封装的部分设备翻新等。

台积电在今年10月法说会上表示,为应对市场短期不确定性,公司投资保持谨慎,今年资本支出维持近320亿美元(约超1万亿元新台币)水平,已适当紧缩。但与7月下旬时台积电法说会上的预期相同,并未下修。

据台积电统计,今年第三季度资本支出约71亿美元,较第二季度81.7亿美元、第一季度99.4亿美元持续下滑,累计前三季度资本支出252.1亿美元,若资本支出达到320亿美元,第四季度资本支出将为67.9亿美元。

(校对/孙乐)

责编: 李梅
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